Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/54177
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorМуратова, Е. Н.-
dc.contributor.authorВрублевский, И. А.-
dc.contributor.authorТучковский, А. К.-
dc.contributor.authorЛушпа, Н. В.-
dc.contributor.authorКовалева, О. А.-
dc.coverage.spatialВеликий Новгородen_US
dc.date.accessioned2024-02-01T06:55:23Z-
dc.date.available2024-02-01T06:55:23Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.citationПолучение пленок меди с развитой морфологией поверхности и микрокристаллической структурой при высоких плотностях тока = Preparation of copper films with developed surface morphology and microcrystalline structure at high current densities / Е. Н. Муратова [и др.] // Вестник НовГУ. – 2023. – № 3(132). – С. 357–364.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/54177-
dc.description.abstractПредставлены результаты исследований морфологии поверхности и состава покрытий из меди, полученных методом электроосаждения при высоких плотностях тока. Показано, что у медных осадков наблюдается пирамидальный рост кристаллов с образованием кристаллических агрегатов с четкими гранями. При этом кристаллы характеризовались однородной формой по всей площади поверхности образцов. Повышение плотности тока и, соответственно, перенапряжения приводит к увеличению количества зародышей кристаллов, что вызывает образование больших кристаллических агрегатов из-за слияния соседних кристаллов. Условия электроосаждения, при больших плотностях тока, позволяют контролировать значения электрохимических и диффузионных факторов, а также механизм образования зародышей и рост кристаллов меди. Полученные результаты свидетельствуют, что за счет варьирования условий электролиза возможно получение осадков меди, обладающих специфической микрокристаллической структурой.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherНовгородский государственный университет им. Ярослава Мудрогоen_US
dc.subjectпубликации ученыхen_US
dc.subjectэлектроосаждениеen_US
dc.subjectмедные покрытияen_US
dc.subjectмикрокристаллические структурыen_US
dc.titleПолучение пленок меди с развитой морфологией поверхности и микрокристаллической структурой при высоких плотностях токаen_US
dc.title.alternativePreparation of copper films with developed surface morphology and microcrystalline structure at high current densitiesen_US
dc.typeArticleen_US
dc.identifier.DOIDOI: 10.34680/2076-8052.2023.3(132).357-364-
local.description.annotationThe results of studies of surface morphology and composition of copper coatings obtained by electrodeposition at high current densities are presented. It is shown that the copper deposits have a pyramidal growth of crystals with the formation of crystalline aggregates with distinct edges. Thus, the crystals were characterized by a homogeneous form over the entire surface area of the samples. Increasing the current density and, accordingly, overvoltage leads to an increase of the number of crystal nuclei, that causes formation of large crystalline aggregates due to the fusion of neighboring crystals. Electrodeposition conditions at high current densities make it possible to control the values of electrochemical and diffusion factors as well as the mechanism of nucleation and growth of copper crystals. The results obtained indicate that by varying the conditions of electrolysis, it is possible to obtain copper deposits with a specific microcrystalline structure.en_US
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Muratova_Poluchenie.pdf614.73 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.