DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Муратова, Е. Н. | - |
dc.contributor.author | Врублевский, И. А. | - |
dc.contributor.author | Тучковский, А. К. | - |
dc.contributor.author | Лушпа, Н. В. | - |
dc.contributor.author | Ковалева, О. А. | - |
dc.coverage.spatial | Великий Новгород | en_US |
dc.date.accessioned | 2024-02-01T06:55:23Z | - |
dc.date.available | 2024-02-01T06:55:23Z | - |
dc.date.issued | 2023 | - |
dc.identifier.citation | Получение пленок меди с развитой морфологией поверхности и микрокристаллической структурой при высоких плотностях тока = Preparation of copper films with developed surface morphology and microcrystalline structure at high current densities / Е. Н. Муратова [и др.] // Вестник НовГУ. – 2023. – № 3(132). – С. 357–364. | en_US |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/54177 | - |
dc.description.abstract | Представлены результаты исследований морфологии поверхности и состава покрытий из
меди, полученных методом электроосаждения при высоких плотностях тока. Показано, что у медных
осадков наблюдается пирамидальный рост кристаллов с образованием кристаллических агрегатов с
четкими гранями. При этом кристаллы характеризовались однородной формой по всей площади
поверхности образцов. Повышение плотности тока и, соответственно, перенапряжения приводит к
увеличению количества зародышей кристаллов, что вызывает образование больших кристаллических
агрегатов из-за слияния соседних кристаллов. Условия электроосаждения, при больших плотностях
тока, позволяют контролировать значения электрохимических и диффузионных факторов, а также
механизм образования зародышей и рост кристаллов меди. Полученные результаты
свидетельствуют, что за счет варьирования условий электролиза возможно получение осадков меди,
обладающих специфической микрокристаллической структурой. | en_US |
dc.language.iso | ru | en_US |
dc.publisher | Новгородский государственный университет им. Ярослава Мудрого | en_US |
dc.subject | публикации ученых | en_US |
dc.subject | электроосаждение | en_US |
dc.subject | медные покрытия | en_US |
dc.subject | микрокристаллические структуры | en_US |
dc.title | Получение пленок меди с развитой морфологией поверхности и микрокристаллической структурой при высоких плотностях тока | en_US |
dc.title.alternative | Preparation of copper films with developed surface morphology and microcrystalline structure at high current densities | en_US |
dc.type | Article | en_US |
dc.identifier.DOI | DOI: 10.34680/2076-8052.2023.3(132).357-364 | - |
local.description.annotation | The results of studies of surface morphology and composition of copper coatings obtained by
electrodeposition at high current densities are presented. It is shown that the copper deposits have a
pyramidal growth of crystals with the formation of crystalline aggregates with distinct edges. Thus, the
crystals were characterized by a homogeneous form over the entire surface area of the samples. Increasing
the current density and, accordingly, overvoltage leads to an increase of the number of crystal nuclei, that
causes formation of large crystalline aggregates due to the fusion of neighboring crystals. Electrodeposition
conditions at high current densities make it possible to control the values of electrochemical and diffusion
factors as well as the mechanism of nucleation and growth of copper crystals. The results obtained indicate
that by varying the conditions of electrolysis, it is possible to obtain copper deposits with a specific
microcrystalline structure. | en_US |
Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях
|