Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58991
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЖданович, Д. Н.-
dc.contributor.authorМедведева, И. Ф.-
dc.contributor.authorФадеева, Е. А.-
dc.contributor.authorОгородников, Д. А.-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2025-02-06T06:22:36Z-
dc.date.available2025-02-06T06:22:36Z-
dc.date.issued2024-
dc.identifier.citationКинетика инжекционного отжига междоузельных атомов кремния в р-области кремниевых n+-p-структур, облученных альфа-частицами = Kinetics of injection annealing of interstitial silicon atoms in the p-region of silicon n+-p-structures irradiated with alpha particles / Д. Н. Жданович, И. Ф. Медведева, Е. А. Фадеева, Д. А. Огородников // Медэлектроника–2024. Средства медицинской электроники и новые медицинские технологии : сборник научных статей XIV Международной научно-технической конференции, Минск, 5–6 декабря 2024 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники [и др.]. – Минск, 2024. – С. 124–127.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58991-
dc.description.abstractИзучена кинетика инжекционного отжига собственных междоузельных атомов кремния в двукратно положительном зарядовом состоянии в р-области кремниевых n+-p-структур, облученных альфа-частицами. Показано, что зависимости концентрации дефектов от прошедшего через n+-p- структуру электрического заряда Q имеют нелинейный характер.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectматериалы конференцийen_US
dc.subjectкремний-германиевый сплавen_US
dc.subjectальфа-частицыen_US
dc.subjectрадиационно-индуцированный центрen_US
dc.subjectинжекцияen_US
dc.titleКинетика инжекционного отжига междоузельных атомов кремния в р-области кремниевых n+-p-структур, облученных альфа-частицамиen_US
dc.title.alternativeKinetics of injection annealing of interstitial silicon atoms in the p-region of silicon n+-p-structures irradiated with alpha particlesen_US
dc.typeArticleen_US
local.description.annotationThe kinetics of injection annealing of intrinsic interstitial silicon atoms in a doubly positive charge state in the p-region of silicon n+-p-structures irradiated with alpha particles was studied. It was shown that the dependences of the defect concentration on the electric charge Q passed through the n+-p-structure are nonlinear. Keywords: silicon-germanium alloy; alpha particle; deep level; radiation-induced center; DLTS spectroscopy.en_US
Appears in Collections:Медэлектроника - 2024

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
ZHdanovich_Kinetika.pdf961.86 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.