| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Перепечко, Е. Ю. | - |
| dc.contributor.author | Гутенко, Н. Д. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | en_US |
| dc.date.accessioned | 2025-06-10T06:35:19Z | - |
| dc.date.available | 2025-06-10T06:35:19Z | - |
| dc.date.issued | 2025 | - |
| dc.identifier.citation | Перепечко, Е. Ю. Нанесение покрытий из титана и молибдена прямым осаждением из ионного пучка = Direct ion beam deposition of titanium and molybdenum coatings / Е. Ю. Перепечко, Н. Д. Гутенко // Электронные системы и технологии : сборник материалов 61-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 21–25 апреля 2025 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2025. – С. 338–340. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/60091 | - |
| dc.description.abstract | Исследовано влияние мощности первичного разряда, потенциала диафрагмы на скорость нанесения тонкопленочных покрытий из титана и молибдена, полученных осаждением из ионного пучка. Установлено, что скорость нанесения пленок почти линейно возрастает с увеличением рабочего давления аргона, ускоряющего напряжения и тока разряда, зависимость скорости нанесения от напряжения на диафрагме имеет немонотонный и неоднозначный характер. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | БГУИР | en_US |
| dc.subject | материалы конференций | en_US |
| dc.subject | ионные пучки | en_US |
| dc.subject | тонкие пленки | en_US |
| dc.subject | титан | en_US |
| dc.subject | молибден | en_US |
| dc.title | Нанесение покрытий из титана и молибдена прямым осаждением из ионного пучка | en_US |
| dc.title.alternative | Direct ion beam deposition of titanium and molybdenum coatings | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| local.description.annotation | The influence of the primary discharge power and the diaphragm potential on the rate of deposition of thin-film coatings of titanium and molybdenum obtained by ion beam deposition was investigated. It was found that the rate of film deposition increases almost linearly with an increase in the working pressure of argon, accelerating voltage and discharge current; the dependence of the deposition rate on the voltage on the diaphragm is non-monotonic and ambiguous. | en_US |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 61-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2025)
|
