Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/61400
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorТуровец, У. Е.-
dc.date.accessioned2025-08-18T06:34:08Z-
dc.date.available2025-08-18T06:34:08Z-
dc.date.issued2025-
dc.identifier.citationТуровец, У. Е. Моделирование оптических процессов в тонкопленочном ИК-светодиоде на основе коллоидных квантовых точек PbS = Modeling of optical processes in thin-film IR light-emitting diode based on colloidal PbS quantum dots / У. Е. Туровец // Доклады БГУИР. – 2025. – Т. 23, № 3. – С. 19–25.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/61400-
dc.description.abstractПроведено моделирование оптических процессов в структуре тонкопленочного ИК-светодиода методом конечной разности во временной области. Исследованы такие параметры, как пропускание, эффективность распространения электромагнитных волн в диапазоне 1,2–1,4 мкм. Смоделировано контрольное устройство со слоем оксида индия-олова (ITO) в качестве прозрачного проводящего электрода. Рассмотрена замена слоя ITO на слой оксида олова, легированного фтором (FTO). Установлено, что при такой замене коэффициент пропускания при прохождении ИК-излучением функциональных слоев FTO увеличивается до 70 %, а угловое распределение Е2 – на 10° в сравнении с устройством со слоем ITO. В связи с чем целесообразно заменять слой прозрачного проводящего электрода ITO на слой FTO.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectдоклады БГУИРen_US
dc.subjectмоделированиеen_US
dc.subjectметод конечной разности во временной областиen_US
dc.subjectИК-светодиодыen_US
dc.subjectнапряженность поляen_US
dc.subjectпропусканиеen_US
dc.subjectэффективность извлечения светаen_US
dc.titleМоделирование оптических процессов в тонкопленочном ИК-светодиоде на основе коллоидных квантовых точек PbSen_US
dc.title.alternativeModeling of optical processes in thin-film IR light-emitting diode based on colloidal PbS quantum dotsen_US
dc.typeArticleen_US
dc.identifier.DOIhttp://dx.doi.org/10.35596/1729-7648-2025-23-3-19-25-
local.description.annotationThe optical processes in the structure of a thin-film IR LED have been simulated using the finite difference method in the time domain. The parameters such as transmission and propagation efficiency of electromagnetic waves in the range of 1.2–1.4 μm have been investigated. A control device with an indium tin oxide (ITO) layer as a transparent conducting electrode has been simulated. The replacement of the ITO layer with a fluorine- doped tin oxide (FTO) layer has been considered. It has been found that with such a replacement, the transmittance of IR radiation passing through the FTO functional layers increases to 70 %, and the angular distribution of E2 increases by 10° compared to a device with an ITO layer. Thus, it is advisable to replace the layer of the transparent conducting ITO electrode with the FTO layer.en_US
Appears in Collections:Том 23, № 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Turovec_Modelirovanie.pdf700.52 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.