| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Потылкин, А. Н. | - |
| dc.contributor.author | Завадский, С. М. | - |
| dc.coverage.spatial | Гродно | en_US |
| dc.date.accessioned | 2026-05-05T07:39:47Z | - |
| dc.date.available | 2026-05-05T07:39:47Z | - |
| dc.date.issued | 2026 | - |
| dc.identifier.citation | Потылкин, А. Н. Оптимизация магнитной системы источника высокочастотного ёмкостного разряда с наложением магнитного поля для ионного травления и полировки оптических деталей диаметром до 300 мм / А. Н. Потылкин, С. М. Завадский // Физика конденсированного состояния : материалы ХХХIV Международной научно-практической конференции студентов, магистрантов, аспирантов и молодых учёных, Гродно, 23–24 апреля 2026 г. / Гродненский государственный университет имени Янки Купалы ; редкол.: А. С. Воронцов (гл. ред.) [и др.]. – Гродно, 2026. – С. 286–288. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/63558 | - |
| dc.description.abstract | Для создания высокоэффективной системы ионно-плазменной полировки исполнительных поверхностей прецизионных оптических деталей использован высокочастотный емкостной разряд с наложением магнитного поля. Для разработки такой системы проведены исследования в области моделирования источника плазмы высокочастотного емкостного разряда с магнитным полем. Изучено влияние загруженности реакционно-разрядного объёма установки СВЧ плазменной обработки кремниевыми пластинами на параметры интегрального оптического свечения разряда при непрерывном | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | Гродненский государственный университет имени Янки Купалы | en_US |
| dc.subject | публикации ученых | en_US |
| dc.subject | оптимизация | en_US |
| dc.subject | магнитные системы | en_US |
| dc.subject | ионное травление | en_US |
| dc.subject | полировка | en_US |
| dc.subject | оптические детали | en_US |
| dc.subject | плазменные процессы | en_US |
| dc.subject | плазменные источники | en_US |
| dc.subject | технологические параметры | en_US |
| dc.subject | микрообработка | en_US |
| dc.title | Оптимизация магнитной системы источника высокочастотного ёмкостного разряда с наложением магнитного поля для ионного травления и полировки оптических деталей диаметром до 300 мм | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| local.description.annotation | The article discusses methods for improving the characteristics of precision optical parts by ion polishing of the working sur faces. Simulation of a high-frequency capacitive discharge source with the application of a magnetic field and a system for ion pol ishing of precision optical parts have been carried out. The results obtained can be used to optimize and improve the processes and equipment for plasma polishing of the working surfaces of precision optical parts. effect’ was confirmed. It is associated with the absorption of part of the supplied electro magnetic energy by the volume of silicon material. | en_US |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь
|
