| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Кукуть, Ю. М. | - |
| dc.contributor.author | Гайдукевич, С. А. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | en_US |
| dc.date.accessioned | 2026-06-22T11:10:16Z | - |
| dc.date.available | 2026-06-22T11:10:16Z | - |
| dc.date.issued | 2026 | - |
| dc.identifier.citation | Кукуть, Ю. М. Формирование гладких пленок оксида алюминия методом плазма-стимулированного атомно-слоевого осаждения / Ю. М. Кукуть, С. А. Гайдукевич // Радиотехника и электроника : сборник материалов 62-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 15–16 апреля 2026 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск, 2026. – С. 199–200. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/64229 | - |
| dc.description.abstract | Изучено влияние режимов плазменной активации на формирование пленок оксида алюминия. Увеличение длительности воздействия плазмы приводит к островковому росту пленки. Отсутствие островкового роста показал процесс с плазменным воздействием длительность 4 секунды и подаваемой мощностью ВЧ-генератора равной 150 Вт. При данном режиме пленка имеет значение неравномерности по толщине на пластине Ø100 мм равное 0,764% и среднеквадратичную шероховатость поверхности 0,274 нм. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | БГУИР | en_US |
| dc.subject | материалы конференций | en_US |
| dc.subject | гладкие пленки | en_US |
| dc.subject | оксид алюминия | en_US |
| dc.subject | атомно-слоевое осаждение | en_US |
| dc.subject | нанотехнологии | en_US |
| dc.subject | механизмы осаждения | en_US |
| dc.title | Формирование гладких пленок оксида алюминия методом плазма-стимулированного атомно-слоевого осаждения | en_US |
| Appears in Collections: | Радиотехника и электроника : материалы 62-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2026)
|
