| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Тихон, О. И. | - |
| dc.contributor.author | Мадвейко, С. И. | - |
| dc.coverage.spatial | Гомель | en_US |
| dc.date.accessioned | 2026-09-16T11:42:50Z | - |
| dc.date.available | 2026-09-16T11:42:50Z | - |
| dc.date.issued | 2026 | - |
| dc.identifier.citation | Тихон, О. И. Исследование процесса удаления фоторезиста в объеме СВЧ разряда при непрерывном режиме генерации электромагнитной энергии = Study of the process of photoresist stripping in the microwave discharge volume in a continuous mode of electromagnetic energy generation / О. И. Тихон, С. И. Мадвейко // ERA – Современная наука: электроника, робототехника, автоматизация : материалы II Международной научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, Гомель, 30–31 октября 2025 г. / Гомельский государственный технический университет имени П. О. Сухого ; редкол.: А. А. Бойко [и др.]. – Гомель : ГГТУ им. П. О. Сухого, 2026. – С. 241–244. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/65769 | - |
| dc.description.abstract | Изучено влияние параметров работы СВЧ генератора и условий формирования СВЧ разряда в непрерывном режиме генерации электромагнитной энергии на скорости удаления фоторезиста с поверхности Si пластин. Установлено закономерное сокращение времени снятия материала с ростом подводимой к разряду мощности, характер зависимостей при одиночной и групповой обработке, наличие оптимального уровня рабочего давления. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | Гомельский государственный технический университет имени П. О. Сухого | en_US |
| dc.subject | публикации ученых | en_US |
| dc.subject | удаление фоторезиста | en_US |
| dc.subject | микроволновые разряды | en_US |
| dc.subject | плазменная очистка | en_US |
| dc.subject | плазмохимическое травление | en_US |
| dc.subject | объемные разряды | en_US |
| dc.title | Исследование процесса удаления фоторезиста в объеме СВЧ разряда при непрерывном режиме генерации электромагнитной энергии | en_US |
| dc.title.alternative | Study of the process of photoresist stripping in the microwave discharge volume in a continuous mode of electromagnetic energy generation | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| local.description.annotation | This study examined the influence of microwave generator operating parameters and microwave discharge formation conditions in continuous electromagnetic energy generation mode on the rate of photoresist stripping from the surface of Si wafers. A consistent reduction in material removal time with an increase of discharge power, the nature of the stripping rates during single and group processing, and the presence of an optimal level of working pressure were established. | en_US |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь
|
