Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66077
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНгуен Чонг Тхань-
dc.contributor.authorВетошкин, В. В.-
dc.contributor.authorЯкуш, В. С.-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2026-11-05T06:11:53Z-
dc.date.available2026-11-05T06:11:53Z-
dc.date.issued2026-
dc.identifier.citationНгуен Чонг Тхань. 4H-SiC траншейный биполярный транзистор с изолированным затвором с низким падением напряжения = 4H-SiC trench insulated gate bipolar transistor with low on-state voltage drop / Нгуен Чонг Тхань, В. В. Ветошкин, В. С. Якуш // Компьютерное проектирование в электронике = Electronic Design Automation : сборник научных трудов Международной научно-практической конференции, Минск, 23 октября 2026 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Р. Стемпицкий [и др.]. – Минск, 2026. – С. 198–200.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66077-
dc.description.abstractв работе представлено исследование конструкции 4H-SiC траншейного БТИЗ с P экранирующим слоем. В состоянии запирания P-экран фиксируется при низком потенциале за счет проводимости PMOS-транзистора, обеспечивая эффективное экранирование окисла траншейного затвора от сильного электрического поля. В открытом состоянии P-экран изолирован от эмиттерного электрода слоем N-кармана, что способствует усилению эффекта инжекции носителей. При высоких напряжениях коллектор-эмиттер P-экран напрямую соединяется с эмиттером через эффект прокола (punch-through) PNP-транзистора с открытой базой, что позволяет снизить ток насыщения.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectматериалы конференцийen_US
dc.subjectтраншейные затворыen_US
dc.subjectP-экраныen_US
dc.title4H-SiC траншейный биполярный транзистор с изолированным затвором с низким падением напряженияen_US
dc.title.alternative4H-SiC trench insulated gate bipolar transistor with low on-state voltage dropen_US
dc.typeArticleen_US
local.description.annotationthis paper presents an investigation of a 4H-SiC trench IGBT structure with a P-shielding layer. In the off-state, the P-shield is fixed at a low potential due to the conductivity of a PMOS transistor, providing effective shielding of the trench gate oxide from the strong electric field. In the on-state, the P-shield is isolated from the emitter electrode by an N-well layer, which enhances the carrier injection effect. At high collector emitter voltages, the P-shield is directly connected to the emitter through the punch-through effect of an open base PNP transistor, which allows for a reduction in the saturation current.en_US
Appears in Collections:Компьютерное проектирование в электронике (2026)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nguen_4H-SiC.pdf248.49 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.