Skip navigation
DSpace logo
  1. Репозиторий БГУИР
  2. Авторефераты диссертаций и отчеты о НИР
  3. Отчеты о НИР
  4. Отчеты о НИР 2013
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorБаранов, И. Л.-
dc.contributor.authorКотов, Д. А.-
dc.contributor.authorЯсюнас, А. А.-
dc.contributor.authorКомар, О. М.-
dc.contributor.authorКорзун, К. А.-
dc.date.accessioned2016-09-05T08:45:11Z
dc.date.accessioned2017-07-19T12:59:36Z-
dc.date.available2016-09-05T08:45:11Z
dc.date.available2017-07-19T12:59:36Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.citationИсследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона (заключительный) : отчет о НИР / БГУИР; научный руководитель И.Л. Баранов ; отв. исполнитель Д.А. Котов. – Минск, 2013. – 41 с. - № ГР 201138728ru_RU
dc.identifier.govdoc№ ГР 201138728-
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8519-
dc.description.abstractПредложено и реализовано использование в качестве силилирующего агента гексаметилдисилозана (ГМДС). При обработке ГМДС OH - группы замещаются на группы О-Si(CH3)3 и поверхность становится гидрофобной, обеспечивая очень хорошую адгезию фоторезиста. В позитивных фоторезистах на основе нафтохинондиазида и новолачных смол после экспонирования и обработки в порах силилирующего агента образуется кремнийсодержащий полимерный слой. С увеличением времени обработки фоторезиста в парах ГМДС концентрация кремнийсодержащих групп возрастает, что подтверждается спектрами пропускания данных образцов.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.relation.ispartofseriesГБЦ 11-3126;-
dc.subjectотчеты о НИРru_RU
dc.subjectсилилированиеru_RU
dc.subjectглубокий субмикронru_RU
dc.subjectфоторезистивная маскаru_RU
dc.subjectфоторезистru_RU
dc.subjectплазмохимическое травлениеru_RU
dc.titleИсследование процессов плазменного проявления и удаления экспонированных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.)ru_RU
dc.typeTechnical Reportru_RU
Appears in Collections:Отчеты о НИР 2013

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
№ ГР 201138728 (11-3126)_Рук_НИР_Баранов.pdf
  Restricted Access		2.28 MBAdobe PDFView/Open Request a copy
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.