https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159| Title: | Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении |
| Other Titles: | Formation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressure |
| Authors: | Достанко, А. П. Голосов, Д. А. Завадский, С. М. Мельников, С. Н. Окоджи, Д. Э. Котинго, Д. Д. Рубан, Г. М. |
| Keywords: | публикации ученых;реактивное магнетронное распыление;нитрид титана;микротвердость;коэффициент трения;объемный износ;reactive magnetron sputtering;titanium nitride |
| Issue Date: | 2016 |
| Publisher: | Гомельский государственный университет им. Ф. Скорины |
| Citation: | Достанко, А. П. Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении / А. П. Достанко и другие // Проблемы физики, математики и техники. - 2016. - Т. 27, № 2. - С. 12-17. |
| Abstract: | Проведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N2 рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм×см и твердостью свыше 28 ГПа. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159 |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.