| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Шиманович, Д. Л. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-01-15T07:17:44Z | - |
| dc.date.available | 2018-01-15T07:17:44Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Шиманович, Д. Л. Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий / Д. Л. Шиманович // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. – 2017. – Т. 17, № 2. – С. 573 – 576. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/29230 | - |
| dc.description.abstract | Изучены технологические методы, отработаны соответствующие режимы формирования дополнительных неорганических диэлектрических пленок методом вакуумного напыления на пористых алюмооксидных основаниях с целью получения модифицированных многослойных структур, обладающих закрытой пористостью и приводящих к улучшению теплофизических и электрофизических свойств конечных диэлектрических покрытий на алюминиевых основаниях. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | МИРЭА | ru_RU |
| dc.subject | публикации ученых | ru_RU |
| dc.subject | электрохимическое анодирование | ru_RU |
| dc.subject | пористый анодный оксид алюминия | ru_RU |
| dc.subject | вакуумное осаждение | ru_RU |
| dc.subject | наноструктурированный материал | ru_RU |
| dc.title | Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях
|
