https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/29230| Title: | Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий |
| Authors: | Шиманович, Д. Л. |
| Keywords: | публикации ученых;электрохимическое анодирование;пористый анодный оксид алюминия;вакуумное осаждение;наноструктурированный материал |
| Issue Date: | 2017 |
| Publisher: | МИРЭА |
| Citation: | Шиманович, Д. Л. Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий / Д. Л. Шиманович // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. – 2017. – Т. 17, № 2. – С. 573 – 576. |
| Abstract: | Изучены технологические методы, отработаны соответствующие режимы формирования дополнительных неорганических диэлектрических пленок методом вакуумного напыления на пористых алюмооксидных основаниях с целью получения модифицированных многослойных структур, обладающих закрытой пористостью и приводящих к улучшению теплофизических и электрофизических свойств конечных диэлектрических покрытий на алюминиевых основаниях. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/29230 |
| Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Shimanovich_Tekhnologicheskiye2.pdf | 2.32 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.