Skip navigation
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31650
Название: Формирование ямок на поверхности Si (111) при термообработке структур Si/Al
Другие названия: Formation of dimples on the Si (111) surface during heat treatment of Si/Al structures
Авторы: Ходарина, Л. П.
Зеленин, В. А.
Гурский, Л. И.
Ключевые слова: доклады БГУИР
Дата публикации: 2009
Издательство: БГУИР
Описание: Ходарина, Л. П. Формирование ямок на поверхности Si (111) при термообработке структур Si/Al / Л. П. Ходарина, В. А. Зеленин, Л. И. Гурский // Доклады БГУИР. - 2009. - № 3 (41). - С. 73 - 78.
Аннотация: The paper discusses the mechanisms responsible for formation of dimples on the Si (111) surface during heat treatment of Si/Al structures. The determination is made of the major regularities of their formation in actual structures.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31650
Располагается в коллекциях:№3 (41)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Khodarina_Formation.PDF1.3 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание Просмотр статистики Google Scholar

Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.