Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31765
Title: Пленки нитрида кремния с низкими механическими напряжениями для микроэлектромеханических систем
Other Titles: Silicon nitride films with low mechanical stresses for microelectromechanical systems applications
Authors: Ковальчук, Н. С.
Keywords: доклады БГУИР;микроэлектромеханические системы;механические напряжения;диэлектрические пленки нитрида кремния;дихлорсилан;аммиак
Issue Date: 2008
Publisher: БГУИР
Citation: Ковальчук, Н. С. Пленки нитрида кремния с низкими механическими напряжениями для микроэлектромеханических систем = Silicon nitride films with low mechanical stresses for microelectromechanical systems applications / Н. С. Ковальчук // Доклады БГУИР. – 2008. – № 4 (34). – С. 60–65.
Abstract: Рассмотрены особенности технологии, позволяющей получать пленки нитрида кремния, имеющие низкие значения остаточных механических напряжений (170–200 МПа) с целью их применения в качестве мембран микроэлектромеханических систем. Получены экспериментальные зависимости остаточных механических напряжений пленок нитрида кремния от их толщины и соотношения используемых в процессе осаждения газов – дихлорсилана и аммиака.
Alternative abstract: The particularities of silicon nitride thin films technology are described in the paper. The target of the research is obtaining silicon nitride thin films with low level of mechanical stresses (170–200 MPa) in order to use them as membranes in microelectromechanical systems (MEMS). The experimental dependences of residual stresses in silicon nitride thin films on their thickness and ratio of the used active gases (diclorsilane and ammonia) have been presented.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31765
Appears in Collections:№4 (34)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Kovalchuk_Silicon.PDF300.07 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.