Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/37194
Title: Тепловые поля в кремниевых подложках при лазерной прошивке отверстий
Authors: Чан, Н. Д.
Keywords: материалы конференций;лазерная прошивка;кремниевая подложка;лазерное излучение;Through Silicon Vias;сквозное отверстие в кремнии
Issue Date: 2019
Publisher: БГУИР
Citation: Чан, Н. Д. Тепловые поля в кремниевых подложках при лазерной прошивке отверстий / Чан Н. Д. // Электронные системы и технологии : 55-я юбилейная конференция аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 22-26 апреля 2019 г. : сборник тезисов докладов / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск : БГУИР, 2019. – С. 394-395.
Abstract: При моделировании тепловых полей в кремниевых подложках установлено, что уменьшение радиуса лазерного излучения ведет к росту температуры нагрева в зоне обработки ввиду большей концентрации источника тепла. Время нагрева для прошивки отверстия должно находиться в пределах 4–5 c при радиусе лазерного пучка 1 мм, и в пределах 70 c при радиусе 2 мм.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/37194
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Chan_Teplovyye.pdf629.41 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.