Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38063
Title: Исследовательский стенд для фотохимически стимулированного удаления фоторезиста
Authors: Тихон, О. И.
Keywords: материалы конференций;исследовательский стенд;очистка полупроводниковых подложек
Issue Date: 2019
Publisher: БГУИР
Citation: Тихон, О. И. Исследовательский стенд для фотохимически стимулированного удаления фоторезиста / О. И. Тихон // Электронные системы и технологии : 55-я юбилейная конференция аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 22–26 апреля 2019 г. : сборник тезисов докладов / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск : БГУИР, 2019. – С. 377–378.
Abstract: Обработка полупроводниковых материалов комбинацией ультрафиолетового излучения и озона считается альтернативой широко применяемым методам сухой очистки и обработке в жидких технологических средах. При рассмотрении возможности применения данного метода в составе технологического маршрута изготовления ИС требуется изучение условий и особенностей его реализации. С целью проведения экспериментов был разработан исследовательский стенд для изучения параметров фотохимически усиленных процессов очистки полупроводниковых подложек и удаления фоторезистивных плёнок в условиях атмосферного давления.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38063
Appears in Collections:Электронные системы и технологии : материалы 55-й юбилейной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2019)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Tikhon_Issledovatelskiy.pdf779.99 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.