https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42936
Название: | Исследование влияния буферного слоя на поверхности подложки и среды процесса на особенности формирования нанокластеров в структуре Si1_xGex |
Авторы: | Строгова, А. С. Ковалевский, А. А. |
Ключевые слова: | публикации ученых;нанокластеры;квантовые точки |
Дата публикации: | 2019 |
Издательство: | Парк-Медиа |
Описание: | Строгова, А. С. Исследование влияния буферного слоя на поверхности подложки и среды процесса на особенности формирования нанокластеров в структуре Si1_xGex / А. С. Строгова, А. А. Ковалевский // Российские нанотехнологии. – 2019. – № 14 (11-12). – С. 35–43. – DOI: https://doi.org/10.21517/1992-7223-2019-11-12-35-43. |
Аннотация: | Представлены экспериментальные результаты влияния исходного буферного слоя на поверхности подложки и среды процесса на возможность и особенности формирования нанокластеров Si1 – xGex (Si, Ge и SiGe). Предложен механизм формирования кремниевых, германиевых и кремний-германиевых нанокластеров (НК) на буферных слоях аморфного кремния, нитрида кремния и оксидов кремния, диспрозия и иттрия. Показано влияние исходного буферного слоя на поверхности подложек в условиях технологического процесса осаждения пленок наноструктурированного кремния, легированного германием (НСК(Ge)), на конфигурацию, размеры и поверхностную концентрацию НК. |
URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42936 |
Располагается в коллекциях: | Публикации в зарубежных изданиях |
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Strogova_Issledovaniye.pdf | 962.02 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.