Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/44374
Title: Влияние ориентации и морфологии на решеточную теплопроводность Si/Ge наношнуров сегментного типа
Authors: Холяво, И. И.
Хомец, А. Л.
Сафронов, И. В.
Keywords: материалы конференций;наношнуры;решетчатая теплопроводность;теплопроводность
Issue Date: 2021
Publisher: БГУИР
Citation: Холяво, И. И. Влияние ориентации и морфологии на решеточную теплопроводность Si/Ge наношнуров сегментного типа / Холяво И. И., Хомец А. Л., Сафронов И. В. // Радиотехника и электроника : сборник тезисов докладов 57-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, апрель 2021 года / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск : БГУИР, 2021. – С. 104–105.
Abstract: В работе проведено исследование влияния ориентации и морфологии наношнуров Si и Ge с диаметром ~ 5 нм на решеточную теплопроводность. Обнаружено, что для наношнуров Si/Ge со структурой сегментного типа возможно достичь коэффициента теплопроводности менее 2 Вт/(м∙К), в то время как значения теплопроводности для наношнуров из чистого Si и Ge составляют 19,1 и 11,4 Вт/(м∙К).
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/44374
Appears in Collections:Радиотехника и электроника : материалы 57-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2021)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Kholyavo_Vliyaniye1.pdf908.29 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.