Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/45353
Title: Исследование процесса удаления фоторезиста в плазме комбинированного разряда
Authors: Бордусов, С. В.
Шинкевич, Ю. С.
Мадвейко, С. И.
Гусев, А. Н.
Keywords: материалы конференций;СВЧ-разряды;комбинированные разряды
Issue Date: 2008
Publisher: БГУИР, РБ
Citation: Исследование процесса удаления фоторезиста в плазме комбинированного разряда / С. В. Бордусов [и др.] // Технические средства защиты информации : материалы докладов и краткие сообщения VI Белорусско-российской научно-технической конференции, Минск, 21-22 мая, 2008 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Ф. Голиков [и др.]. – Минск, 2008. – С. 77–78.
Abstract: В процессах производства элементной базы средств защиты информации все чаще используется СВЧ разряд и его модификации. Одной из разновидностей сверхвысокочастотного разряда является комбинированный разряд, формируемый путем наложения на СВЧ разряд электромагнитного поля низкочастотного или высокочастотного диапазона. При таком способе появляется возможность дополнительного управления энерговкладом в плазменный объем и энергией заряженных плазменных частиц, что изменяет физико-химические процессы в объеме неравновесной плазмы и на границе раздела плазма — твердое тело.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/45353
Appears in Collections:ТСЗИ 2008

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Bordusov_Issledovaniye.pdf182.18 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.