| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Нестерчик, Р. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2022-06-06T06:42:12Z | - |
| dc.date.available | 2022-06-06T06:42:12Z | - |
| dc.date.issued | 2022 | - |
| dc.identifier.citation | Нестерчик, Р. И. Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе / Р. И. Нестерчик // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 466–468. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47255 | - |
| dc.description.abstract | В статье рассматривается влияние состава газовой среды на характеристики разряда магнетрона при высоковакуумном реактивном магнетронном распылении. Представленные зависимости скорости нанесения пленок оксида ванадия от процентного содержания кислорода в смеси газов аргон/кислород для различных режимов при распыление на постоянном токе и при импульсном распылении. The article considers the influence of the composition of the gaseous medium on the characteristics of the magnetron discharge during high-vacuum reactive magnetron sputtering. The presented dependences of the deposition rate of vanadium oxide films on the percentage of oxygen in the argon/oxygen gas mixture for different modes during DC and pulsed sputtering. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | магнетронные распылительные системы | ru_RU |
| dc.subject | реактивное магнетронное распыление | ru_RU |
| dc.subject | импульсное питание | ru_RU |
| dc.subject | magnetron sputtering systems | ru_RU |
| dc.subject | reactive magnetron sputtering | ru_RU |
| dc.subject | deposition rate | ru_RU |
| dc.title | Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе | ru_RU |
| dc.title.alternative | Discharge characteristics of a magnetron sputtering system under reactive magnetron sputtering of a metal vanadium target at direct and pulsed current | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)
|
