Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47256
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНестерчик, Р. И.-
dc.date.accessioned2022-06-06T06:49:25Z-
dc.date.available2022-06-06T06:49:25Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationНестерчик, Р. И. Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении / Р. И. Нестерчик // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 463–465. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47256-
dc.description.abstractВ статье рассматривается влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении. В работе приведены экспериментально полученные зависимости напряжения разряда от частоты следования импульсов и длительности положительного импульса. The article considers the influence of the temporal characteristics of pulsed power supply on arcing and process stability during reactive magnetron sputtering. The paper presents the experimentally obtained dependences of the discharge voltage on the pulse repetition rate and the duration of the positive pulse.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectматериалы конференцийru_RU
dc.subjectмагнетронные распылительные системыru_RU
dc.subjectреактивное магнетронное распылениеru_RU
dc.subjectимпульсное питаниеru_RU
dc.subjectдугообразованиеru_RU
dc.subjectдугообразованиеru_RU
dc.subjectmagnetron sputtering systemsru_RU
dc.subjectreactive magnetron sputteringru_RU
dc.subjectpulse powerru_RU
dc.subjectarcingru_RU
dc.subjectmicroarcsru_RU
dc.titleВлияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распыленииru_RU
dc.title.alternativeInfluence of time characteristics of pulsed power on arching and stability of the process under reactive magnetron sputteringru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
Appears in Collections:Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nesterchk_Vliyaniye.pdf235.54 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.