DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Нестерчик, Р. И. | - |
dc.date.accessioned | 2022-06-06T06:49:25Z | - |
dc.date.available | 2022-06-06T06:49:25Z | - |
dc.date.issued | 2022 | - |
dc.identifier.citation | Нестерчик, Р. И. Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении / Р. И. Нестерчик // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 463–465. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47256 | - |
dc.description.abstract | В статье рассматривается влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении. В работе приведены экспериментально полученные зависимости напряжения разряда от частоты следования импульсов и длительности положительного импульса. The article considers the influence of the temporal characteristics of pulsed power supply on arcing and process stability during reactive magnetron sputtering. The paper presents the experimentally obtained dependences of the discharge voltage on the pulse repetition rate and the duration of the positive pulse. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
dc.subject | магнетронные распылительные системы | ru_RU |
dc.subject | реактивное магнетронное распыление | ru_RU |
dc.subject | импульсное питание | ru_RU |
dc.subject | дугообразование | ru_RU |
dc.subject | дугообразование | ru_RU |
dc.subject | magnetron sputtering systems | ru_RU |
dc.subject | reactive magnetron sputtering | ru_RU |
dc.subject | pulse power | ru_RU |
dc.subject | arcing | ru_RU |
dc.subject | microarcs | ru_RU |
dc.title | Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении | ru_RU |
dc.title.alternative | Influence of time characteristics of pulsed power on arching and stability of the process under reactive magnetron sputtering | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)
|