| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Жаворонок, И. А. | - |
| dc.contributor.author | Тихон, О. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2022-06-07T11:24:47Z | - |
| dc.date.available | 2022-06-07T11:24:47Z | - |
| dc.date.issued | 2022 | - |
| dc.identifier.citation | Жаворонок, И. А. Зарядовые состояния МОП-структур / И. А. Жаворонок, О. И. Тихон // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 406–408. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47295 | - |
| dc.description.abstract | Проведен анализ процессов, происходящих на поверхности МОП-структур во время плазменной обработки, причины возникновения зарядовых состояниях и их влияние на параметры выходного изделия. The analysis of the processes occurring on the surface of MOS structures during plasma processing, the causes of the occurrence of charge states and their influence on the parameters of the output product is carried out. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | зарядовые состояния | ru_RU |
| dc.subject | МОП-структуры | ru_RU |
| dc.subject | плазменная обработка | ru_RU |
| dc.subject | charge states | ru_RU |
| dc.subject | MOS structure | ru_RU |
| dc.subject | plasma processing | ru_RU |
| dc.title | Зарядовые состояния МОП-структур | ru_RU |
| dc.title.alternative | Charge states of MOS structures | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)
|
