Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47299
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЗырянова, А. С.-
dc.date.accessioned2022-06-07T11:35:05Z-
dc.date.available2022-06-07T11:35:05Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationЗырянова, А. С. Исследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафния / А. С. Зырянова // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 414–416. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47299-
dc.description.abstractПроведено исследование морфологии поверхности пленок диоксида гафния при их нанесении реактивным ионно-лучевым распылением металлической мишени с использованием метода атомно-силовой микроскопии. Установлено, что после отжига поверхность стала более гладкой и значительно уменьшилось значение средней шероховатости. A study was made of the surface morphology of hafnium dioxide films during their deposition by reactive ion-beam sputtering of a metal target using the method of atomic force microscopy. It was found that after annealing the surface became smoother and the value of the average roughness significantly decreased.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectматериалы конференцийru_RU
dc.subjectдиоксид гафнияru_RU
dc.subjectтонкие пленкиru_RU
dc.subjectреактивное ионно-лучевое распылениеru_RU
dc.subjectатомно-силовая микроскопияru_RU
dc.subjectтермический отжигru_RU
dc.subjecthafnium dioxideru_RU
dc.subjectthin filmsru_RU
dc.subjectreactive ion-beam sputteringru_RU
dc.subjectatomic force microscopyru_RU
dc.subjectthermal annealingru_RU
dc.titleИсследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафнияru_RU
dc.title.alternativeInfluence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 filmsru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
Appears in Collections:Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Zyryanova_Issledovaniye.pdf272.27 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.