Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/48288
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНаливайко, О. Ю.-
dc.coverage.spatialМинск-
dc.date.accessioned2022-09-30T07:07:19Z-
dc.date.available2022-09-30T07:07:19Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationНаливайко, О. Ю. Формирование из газовой фазы функциональных слоев субмикронных структур интегральных микросхем на основе кремния : автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / О. Ю. Наливайко ; науч. рук. А. С. Турцевич. – Минск : БГУИР, 2022. – 28 с.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/48288-
dc.description.abstractЦелью работы является разработка и исследование комплекса новых технологических процессов и конструктивно-технологических способов получения слоёв Si, Si 1-x Ge x , W для субмикронных структур интегральных микросхем на основе кремния.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectавторефераты диссертацийru_RU
dc.subjectсубмикронные структурыru_RU
dc.subjectинтегральные микросхемыru_RU
dc.titleФормирование из газовой фазы функциональных слоев субмикронных структур интегральных микросхем на основе кремнияru_RU
dc.typeThesisru_RU
Appears in Collections:05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nalivaiko_avt.pdf2.06 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.