Исследование методом спектроскопии комбинационного рассеяния света концентрации носителей заряда и механических напряжений в графене, перенесенном с помощью различных каркасов

Abstract

Проведены сравнительные исследования концентрации носителей заряда (n) и относительной деформации (  ) в графене, синтезированном методом химического парофазного осаждения и перенесенном на поверхность подложки SiO 2 /Si с использованием двух различных каркасов — полиметилметакрилата (ПММА) и парафина — с последующей комплексной обработкой. Использован корреляционный метод анализа положений КР-активных мод. Установлено, что в случае использования парафина концентрация носителей заряда в графене меньше, чем для ПММА. Дальнейшая жидко- фазная и термическая обработка, применяемая для удаления каркаса из парафина, приводит к росту n вплоть до 1.2  10 13 см –2 . Для образцов графена, перенесенных с помощью каркаса из ПММА, тенденции в изменении n не наблюдается независимо от видов обработки. Разброс значений  для графена, перенесенного с помощью парафина с последующим применением жидкофазной и термической обработки в вакууме, больше, чем для графена, перенесенного с помощью ПММА и прошедшего аналогичную обработку: от –0.01875 до –0.1488 % и от –0.04375 до –0.0875 %. Установлено, что помимо непосредственно самого материала каркаса для переноса определяющее влияние на качество графена оказывает сочетание методов обработки. Оптимизация этих параметров позволяет повысить эффективность методики переноса графена с одновременным улучшением эксплуатационных характеристик устройств графеновой наноэлектроники.