| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Ахметзянов, Г. Д. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | en_US |
| dc.date.accessioned | 2024-07-30T08:30:16Z | - |
| dc.date.available | 2024-07-30T08:30:16Z | - |
| dc.date.issued | 2024 | - |
| dc.identifier.citation | Ахметзянов, Г. Д. Анализ методов получения тонких пленок ионным распылением = Analysis of methods for producing thin films by ion sputtering / Г. Д. Ахметзянов // Электронные системы и технологии : сборник материалов 60-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 22–26 апреля 2024 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2024. – С. 215–217. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/56747 | - |
| dc.description.abstract | Представлен анализ основных методов ионного распыления для получения
тонких пленок, рассмотрены их преимущества и недостатки. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | БГУИР | en_US |
| dc.subject | материалы конференций | en_US |
| dc.subject | ионное распыление | en_US |
| dc.subject | тонкие пленки | en_US |
| dc.title | Анализ методов получения тонких пленок ионным распылением | en_US |
| dc.title.alternative | Analysis of methods for producing thin films by ion sputtering | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| local.description.annotation | An analysis of the main methods of ion sputtering for producing thin films is
presented, their advantages and disadvantages are considered. | - |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 60-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2024)
|
