Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/56747
Title: Анализ методов получения тонких пленок ионным распылением
Other Titles: Analysis of methods for producing thin films by ion sputtering
Authors: Ахметзянов, Г. Д.
Keywords: материалы конференций;ионное распыление;тонкие пленки
Issue Date: 2024
Publisher: БГУИР
Citation: Ахметзянов, Г. Д. Анализ методов получения тонких пленок ионным распылением = Analysis of methods for producing thin films by ion sputtering / Г. Д. Ахметзянов // Электронные системы и технологии : сборник материалов 60-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 22–26 апреля 2024 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2024. – С. 215–217.
Abstract: Представлен анализ основных методов ионного распыления для получения тонких пленок, рассмотрены их преимущества и недостатки.
Alternative abstract: An analysis of the main methods of ion sputtering for producing thin films is presented, their advantages and disadvantages are considered.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/56747
Appears in Collections:Электронные системы и технологии : материалы 60-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2024)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Ahmenzyanov_Analiz_metodov.pdf696.59 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.