Формирование диэлектрического материала на основе окисленного пористого кремния и оксида титана для интегральных оптических волноводов

Белый, Г. В.; Лопато, У. П.; Бондаренко, В. П.; Гревцов, Н. Л.; Чубенко, Е. Б.; Лабунов, В. А.

Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66004

Title:	Формирование диэлектрического материала на основе окисленного пористого кремния и оксида титана для интегральных оптических волноводов
Other Titles:	Formation of a dielectric material derived from oxidized porous silicon and titanium oxide for integrated optical waveguides
Authors:	Белый, Г. В. Лопато, У. П. Бондаренко, В. П. Гревцов, Н. Л. Чубенко, Е. Б. Лабунов, В. А.
Keywords:	публикации ученых;показатели преломления;оптические волноводы;диэлектрические материалы
Issue Date:	2026
Citation:	Формирование диэлектрического материала на основе окисленного пористого кремния и оксида титана для интегральных оптических волноводов = Formation of a dielectric material derived from oxidized porous silicon and titanium oxide for integrated optical waveguides / Г. В. Белый, У. П. Лопато, В. П. Бондаренко, Н. Л. Гревцов, Е. Б. Чубенко [и др.] // Журнал прикладной спектроскопии. – 2026. – Т. 93, № 4. – С. 548–555.
Abstract:	Продемонстрирована возможность формирования диэлектрического материала на основе окисленного пористого кремния и оксида титана путем осаждения последнего в пористый кремний золь-гель методом и последующего высокотемпературного окисления. Полученный в результате реализации предложенной методики диэлектрический материал характеризуется увеличенным показателем преломления, что делает его перспективным для создания интегральных оптических канальных волноводов с низкими потерями в объемных микросборках электронных схем с оптическими соединениями.
Alternative abstract:	The feasibility of forming a dielectric material based on oxidized porous silicon and titanium oxide by depositing the latter onto porous silicon using the sol-gel method and subsequent high-temperature oxidation is demonstrated. The resulting dielectric material is characterized by an increased refractive index, making it promising for the creation of low-loss integrated optical channel waveguides in bulk microassemblies of elec- tronic circuits with optical interconnects.
URI:	https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66004
DOI:	10.1007/s10812-026-02154-6
Appears in Collections:	Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
Belyj_Formirovanie.pdf		978.97 kB	Adobe PDF	View/Open

Show full item record Google Scholar