| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Коряковка, Е. Е. | - |
| dc.contributor.author | Ефремов, А. М. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | en_US |
| dc.date.accessioned | 2026-11-05T07:42:33Z | - |
| dc.date.available | 2026-11-05T07:42:33Z | - |
| dc.date.issued | 2026 | - |
| dc.identifier.citation | Коряковка, Е. Е. 0D моделирование индуктивно-связанной плазмы гексафторэтана в реакторе плазмохимического травления = 0D modeling of inductively-coupled hexafluoroethane plasma in plasma chemical etching reactor / Е. Е. Корякова, А. М. Ефремов // Компьютерное проектирование в электронике = Electronic Design Automation : сборник научных трудов Международной научно-практической конференции, Минск, 23 октября 2026 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Р. Стемпицкий [и др.]. – Минск, 2026. – С. 69–72. | en_US |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66086 | - |
| dc.description.abstract | Проведено комплексное (теоретическое и экспериментальное) исследование физикохимических свойств низкотемпературной плазмы гексафторэтана (С2F6), применяемой в процессах высокоселективного плазмохимического травления диэлектрических слоев. Разработана нульмерная (0D) самосогласованная кинетическая модель плазмы, учитывающая балансы концентраций нейтральных и заряженных частиц, баланс энергии электронов и тепловой баланс нейтрального газа. По сравнению с предшествующими работами модель дополнена блоком реакций многоканальной
рекомбинации атомов и радикалов на стенках реактора. Продемонстрировано лучшее согласие между расчетными и экспериментальными данными по концентрациям электронов, атомов F и радикалов CF2 в диапазоне давлений 5–35 мтор и вкладываемой мощности 100–350 Вт. | en_US |
| dc.language.iso | ru | en_US |
| dc.publisher | БГУИР | en_US |
| dc.subject | материалы конференций | en_US |
| dc.subject | плазмохимическое травление | en_US |
| dc.subject | С2F6 | en_US |
| dc.subject | гексафторэтаны | en_US |
| dc.subject | 0D модель | en_US |
| dc.subject | кинетика плазмы | en_US |
| dc.subject | гетерогенная рекомбинация | en_US |
| dc.title | 0D моделирование индуктивно-связанной плазмы гексафторэтана в реакторе плазмохимического травления | en_US |
| dc.title.alternative | 0D modeling of inductively-coupled hexafluoroethane plasma in plasma chemical etching reactor | en_US |
| dc.type | Article | en_US |
| local.description.annotation | A comprehensive theoretical and experimental study of the characteristics of low-temperature hexafluoroethane (C2F6) plasma used in the processes of highly selective plasmochemical etching of dielectric layers has been carried out. A zero-dimensional (0D) self-consistent kinetic model has been developed that takes into account the density balances of neutral and charged particles, the energy balance of electrons, and the thermal balance of a neutral gas. The model is complemented by a block of heterogeneous reactions of recombination of radicals and atoms on the reactor walls. A satisfactory agreement between model-predicted and experimental data was demonstrated for gas pressures of 5-35 mtorr and input powers of 100-350 W. | en_US |
| Appears in Collections: | Компьютерное проектирование в электронике (2026)
|
