https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66086| Title: | 0D моделирование индуктивно-связанной плазмы гексафторэтана в реакторе плазмохимического травления |
| Other Titles: | 0D modeling of inductively-coupled hexafluoroethane plasma in plasma chemical etching reactor |
| Authors: | Коряковка, Е. Е. Ефремов, А. М. |
| Keywords: | материалы конференций;плазмохимическое травление;С2F6;гексафторэтаны;0D модель;кинетика плазмы;гетерогенная рекомбинация |
| Issue Date: | 2026 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Коряковка, Е. Е. 0D моделирование индуктивно-связанной плазмы гексафторэтана в реакторе плазмохимического травления = 0D modeling of inductively-coupled hexafluoroethane plasma in plasma chemical etching reactor / Е. Е. Корякова, А. М. Ефремов // Компьютерное проектирование в электронике = Electronic Design Automation : сборник научных трудов Международной научно-практической конференции, Минск, 23 октября 2026 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Р. Стемпицкий [и др.]. – Минск, 2026. – С. 69–72. |
| Abstract: | Проведено комплексное (теоретическое и экспериментальное) исследование физикохимических свойств низкотемпературной плазмы гексафторэтана (С2F6), применяемой в процессах высокоселективного плазмохимического травления диэлектрических слоев. Разработана нульмерная (0D) самосогласованная кинетическая модель плазмы, учитывающая балансы концентраций нейтральных и заряженных частиц, баланс энергии электронов и тепловой баланс нейтрального газа. По сравнению с предшествующими работами модель дополнена блоком реакций многоканальной рекомбинации атомов и радикалов на стенках реактора. Продемонстрировано лучшее согласие между расчетными и экспериментальными данными по концентрациям электронов, атомов F и радикалов CF2 в диапазоне давлений 5–35 мтор и вкладываемой мощности 100–350 Вт. |
| Alternative abstract: | A comprehensive theoretical and experimental study of the characteristics of low-temperature hexafluoroethane (C2F6) plasma used in the processes of highly selective plasmochemical etching of dielectric layers has been carried out. A zero-dimensional (0D) self-consistent kinetic model has been developed that takes into account the density balances of neutral and charged particles, the energy balance of electrons, and the thermal balance of a neutral gas. The model is complemented by a block of heterogeneous reactions of recombination of radicals and atoms on the reactor walls. A satisfactory agreement between model-predicted and experimental data was demonstrated for gas pressures of 5-35 mtorr and input powers of 100-350 W. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/66086 |
| Appears in Collections: | Компьютерное проектирование в электронике (2026) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Koryakova_0D_Modelirovanie.pdf | 245.33 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.