Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспони-рованных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.)

Баранов, И. Л.; Котов, Д. А.; Ясюнас, А. А.; Комар, О. М.; Корзун, К. А.

Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/7652

Title:	Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспони-рованных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.)
Authors:	Баранов, И. Л. Котов, Д. А. Ясюнас, А. А. Комар, О. М. Корзун, К. А.
Keywords:	отчеты о НИР;силилирование;глубокий субмикрон;фоторезистивная маска;фоторезист;плазмохимическое травление
Issue Date:	2013
Publisher:	БГУИР
Citation:	Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспони-рованных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона(заключительный) : отчет о НИР / БГУИР; научный руководитель И.Л.Баранов ; отв. исполнитель Д.А.Котов . – Минск, 2013. – 41 с. - № ГР 20113872
Series/Report no.:	ГБЦ 11-3126;
Abstract:	В процессе работы проводились экспериментальные исследования по выбору технологии химического усиления фоторезистивного материала, применяемого при формировании устойчивой к плазменной обработке маски. А также проводились работы по исследованию процесса плазмохимического травления химически усиленных фоторезистивных покрытий.
Gov't Doc #:	№ ГР 20113872
URI:	https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/7652
Appears in Collections:	Отчеты о НИР 2013

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
№ ГР 20113872 (11-3126)_Рук_НИР_Баранов.pdf Restricted Access		2.28 MB	Adobe PDF	View/Open Request a copy

Show full item record Google Scholar