Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/7652
Title: Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспони-рованных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона: отчет о НИР (заключ.)
Authors: Баранов, И. Л.
Котов, Д. А.
Ясюнас, А. А.
Комар, О. М.
Корзун, К. А.
Keywords: отчеты о НИР;силилирование;глубокий субмикрон;фоторезистивная маска;фоторезист;плазмохимическое травление
Issue Date: 2013
Publisher: БГУИР
Citation: Исследование процессов плазменного проявления и удаления экспони-рованных лазером фоточувствительных материалов для разработки и освоения новой передовой технологии – вакуумной фотолитографии глубокого субмикрона(заключительный) : отчет о НИР / БГУИР; научный руководитель И.Л.Баранов ; отв. исполнитель Д.А.Котов . – Минск, 2013. – 41 с. - № ГР 20113872
Series/Report no.: ГБЦ 11-3126;
Abstract: В процессе работы проводились экспериментальные исследования по выбору технологии химического усиления фоторезистивного материала, применяемого при формировании устойчивой к плазменной обработке маски. А также проводились работы по исследованию процесса плазмохимического травления химически усиленных фоторезистивных покрытий.
Gov't Doc #: № ГР 20113872
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/7652
Appears in Collections:Отчеты о НИР 2013

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
№ ГР 20113872 (11-3126)_Рук_НИР_Баранов.pdf
  Restricted Access
2.28 MBAdobe PDFView/Open Request a copy
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.