Применение метода самораспространяющегося высокотемпературного синтеза для получения пористых вакуумных вставок планшайб оборудования электронного машиностроения

Abstract

Приведены результаты исследования процесса получения методом самораспространяющегося высокотемпературного синтеза пористых вакуумных вставок планшайб, используемых при производстве полупроводниковых кремниевых пластин на предприятиях электронного машиностроения. There are given the results of research the process of receiving by method of self-extending high- temperature synthesis of porous vacuum inserts of the faceplates used by production of semiconductor silicon plates at the enterprises of electronic mechanical engineering.