https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/1709
Title: | Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов |
Other Titles: | An advanced sidewalls profile control method for thick photoresist |
Authors: | Агейченко, А. С. Матюшков, В. Е. |
Keywords: | доклады БГУИР;фотолитография;фоторезист;проекционный объектив;апертурная диафрагма |
Issue Date: | 2011 |
Publisher: | БГУИР |
Citation: | Агейченко, А. С. Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов = An advanced sidewalls profile control method for thick photoresist / А. С. Агейченко, В. Е. Матюшков // Доклады БГУИР. – 2011. – № 1 (55). – С. 49–54. |
Abstract: | Рассмотрены способы управления профилем боковых стенок проявленных фоторезистов повышенной толщины, используемых в технологии передовой упаковки микросхем методом бампинга перевернутого чипа и МЭМС. |
URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/1709 |
Appears in Collections: | №1 (55) |
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Ageychenko_Noviy.PDF | 620.24 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.