| Title: | Average power microwave plasmatron for semiconducting materials removal |
| Authors: | Tikhon, O. I. |
| Keywords: | материалы конференций;average power;microwave plasmatron;semiconducting materials |
| Issue Date: | 2017 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Tikhon, O. I. Average power microwave plasmatron for semiconducting materials removal / O. I. Tikhon // Компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : сборник материалов 53-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 2–6 мая 2017 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; отв. ред. Раднёнок А. Л. – Минск, 2017. – С. 316–318. |
| Abstract: | The purpose of this paper is to review modern trends in semiconducting materials plasma processing, to show results of
photoresist removal and describe microwave plasmatron used for such treatment. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/25860 |
| Appears in Collections: | Компьютерное проектирование и технология производства электронных систем : материалы 53-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2017)
|
