https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30713
Title: | Исследование и оптимизация процесса осаждения пленок поликристаллического кремния, легированного германием как изовалентной примесью |
Other Titles: | Investigation and optimization of the deposition process of polycrystalline silicon films doped by germanium as an isovalent impurity |
Authors: | Борисевич, В. М. Ковалевский, А. А. Нелаев, В. В. Малышев, В. С. Стемпицкий, В. Р. |
Keywords: | доклады БГУИР;кинетика;изовалентная примесь;скорость осаждения;удельное электрическое сопротивление;аппроксимация;оптимизация |
Issue Date: | 2004 |
Publisher: | БГУИР |
Citation: | Исследование и оптимизация процесса осаждения пленок поликристаллического кремния, легированного германием как изовалентной примесью / В. М. Борисевич и другие // Доклады БГУИР. - 2004. - № 3 (7). - С. 139 - 151. |
Abstract: | Проведено экспериментальное исследование кинетики роста пленок поликристаллического кремния, легированных изовалентной примесью — германием. Установлены закономерности влияния основных технологических параметров процесса на скорость роста и удельное электрическое сопротивление пленок. Тонкие пленки поликристаллического кремния, легированные германием и выращенные при температуре 6200 С, при пониженном давлении обладают лучшими структурно-морфологическими свойствами по сравнению с нелегированными пленками. На основании экспериментальных результатов получена аппроксимационная зависимость скорости осаждения, удельного электрического сопротивления от условий разложения моногидридов и состава газовой смеси. Приведены результаты решения задачи оптимизации значимых параметров исследованного процесса. |
URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/30713 |
Appears in Collections: | №3 (7) |
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Borisevich_Investigation.pdf | 781.61 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.