Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31597
Title: Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний
Other Titles: Electrochemical deposition of nickel on macro- and mesoporous silicon
Authors: Долгий, А. Л.
Клышко, А. А.
Бондаренко, В. П.
Dolgiy, A. L.
Klyshko, A. A.
Bondarenko, V. P.
Keywords: доклады БГУИР
электрохимическое анодирование
пористый кремний
сканирующая электронная микроскопия
электрохимическое осаждение
никель
Issue Date: 2009
Publisher: БГУИР
Citation: Долгий, А. Л. Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний / А. Л. Долгий, А. А. Клышко, В. П. Бондаренко // Доклады БГУИР. - 2009. - № 1 (39). - С. 65 - 70.
Abstract: Методом электрохимического анодирования кремниевых подложек в растворе фтористоводородной кислоты получены слои макро- и мезопористого кремния. Электрохимическим методом на пористый кремний были осаждены слои никеля. Методом сканирующей электронной микроскопии исследована структура полученных образцов. Исследована кинетика роста слоев никеля на мезопористом кремнии различной пористости.Layers of macro- and mesoporous silicon have been obtained by electrochemical anodization of silicon substrates in HF solution. Layers of nickel have been electrochemically deposited on porous silicon. Structure of samples has been examined with help of scanning electron microscopy. Kinetics of growth of nickel layers on mesoporous silicon with difference of porosity values has been investigated.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31597
Appears in Collections:№1 (39)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Douhi_Electrochemical.PDF519,52 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.