https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31597| Название: | Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний |
| Другие названия: | Electrochemical deposition of nickel on macro- and mesoporous silicon |
| Авторы: | Долгий, А. Л. Клышко, А. А. Бондаренко, В. П. |
| Ключевые слова: | доклады БГУИР;электрохимическое анодирование;пористый кремний;сканирующая электронная микроскопия;электрохимическое осаждение;никель |
| Дата публикации: | 2009 |
| Издательство: | БГУИР |
| Описание: | Долгий, А. Л. Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний / А. Л. Долгий, А. А. Клышко, В. П. Бондаренко // Доклады БГУИР. - 2009. - № 1 (39). - С. 65 - 70. |
| Аннотация: | Методом электрохимического анодирования кремниевых подложек в растворе фтористоводородной кислоты получены слои макро- и мезопористого кремния. Электрохимическим методом на пористый кремний были осаждены слои никеля. Методом сканирующей электронной микроскопии исследована структура полученных образцов. Исследована кинетика роста слоев никеля на мезопористом кремнии различной пористости. |
| Аннотация на другом языке: | Layers of macro- and mesoporous silicon have been obtained by electrochemical anodization of silicon substrates in HF solution. Layers of nickel have been electrochemically deposited on porous silicon. Structure of samples has been examined with help of scanning electron microscopy. Kinetics of growth of nickel layers on mesoporous silicon with difference of porosity values has been investigated. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31597 |
| Располагается в коллекциях: | №1 (39) |
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Douhi_Electrochemical.PDF | 519.52 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.