Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31613
Title: Получение и свойства наноструктурных металлоксидных пленок на основе анодированных композиций Al/Ti
Other Titles: The formation and properties of nanostructured metal-oxide films based on the anodized Al/Ti compositions
Authors: Плиговка, А. Н.
Мозалев, А. М.
Keywords: доклады БГУИР;электрохимическое анодирование;анодный оксид алюминия;оксид титана;наноструктурные металлоксиды;газовые микросенсоры
Issue Date: 2008
Publisher: БГУИР
Citation: Плиговка, А. Н. Получение и свойства наноструктурных металлоксидных пленок на основе анодированных композиций Al/Ti = The formation and properties of nanostructured metal-oxide films based on the anodized Al/Ti compositions / А. Н. Плиговка, А. М. Мозалев // Доклады БГУИР. – 2008. – № 8 (38). – С. 50–57.
Abstract: Двухслойную тонкопленочную композицию Al/Ti формировали последовательным магнетронным напылением слоев Ti (40нм) и Al (400нм) на стеклянные пластины. Наноструктурированные металлоксидные пленки получали анодированием системы в трех различных электролитах при напряжениях 195, 80 и 25 В. Наночастицы металлов, остающиеся на границе раздела пленка/подложка, пробовали окислять с помощью высоковольтного реанодирования и термообработки. С помощью электронной микроскопии и электрических измерений установлено, что для образцов, полученных при 80 и 25 В частицы Al и Ti могут быть полностью оксидированы, а для образцов, полученных при 195 В алюминий остается в виде наноразмерной сетки с контролируемым сопротивлением. Полученные пленки могут применяться в качестве диэлектрических темплатов, микрорезисторов и оптических покрытий.
Alternative abstract: Al/Ti bilayer specimens were formed by a sequential magnetron sputtering of Ti(40nm) and Al(400nm) layers onto glass substrates. Nanostructured metal-oxide films were grown by anodizing the metal bilayers in three different electrolytes at 195, 80, and 25 V. A high-voltage reanodizing followed by annealing was tried to oxidize Al and Ti nanoparticles remaining at the film/substrate interface. Electron microscopy and resistivity measurements have shown that the metallic nanoparticles can be fully oxidized in the 80-V and 25-V specimens while they always remain in the 195-V specimen as a self-organized nanosized grid with controlled resistivity. Potential applications of these films are as nanoporous dielectric templates, microresistors, and optical coatings.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31613
Appears in Collections:№8 (38)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Plihauka_The.PDF617.86 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.