Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31760
Title: Исследование структуры мезопористого кремния
Other Titles: Investigation of structure of mesoporous silicon
Authors: Холостов, К. И.
Филатова, О. С.
Бондаренко, В. П.
Keywords: доклады БГУИР;электрохимическое анодирование;пористый кремний;сканирующая электронная микроскопия
Issue Date: 2008
Publisher: БГУИР
Citation: Холостов, К. И. Исследование структуры мезопористого кремния = Investigation of structure of mesoporous silicon / К. И. Холостов, О. С. Филатова, В. П. Бондаренко // Доклады БГУИР. – 2008. – № 4 (34). – С. 72–76.
Abstract: Методом электрохимического анодирования сильнолегированных кремниевых подложек электронного типа проводимости в растворе фтористоводородной кислоты получены пленки мезопористого кремния. Методом сканирующей электронной микроскопии исследованы такие структурные параметры пористого материала, как средний диаметр пор, среднее расстояние между порами, концентрация пор на поверхности. Полученные данные можно использовать для построения компьютерной модели структуры мезопористого кремния для теоретической разработки процессов осаждения металлов, а также полупроводниковых соединений на поверхность пористого материала и вглубь каналов пор для формирования различных сенсорных, оптических и оптоэлектронных приборов.
Alternative abstract: Films of mesoporous material have been obtained by electrochemical anodization of silicon substrates with n+ -type conductivity in HF solution. Regimes of its formation in dependence of anodization time and current density also have been experimentally studied. Such structure parameters of porous material like average diameter of pores, average distance between pores, surface concentration of pores with help of scanning electron microscopy has been presented. Obtained data can be useful for computer modeling of metal deposition process or deposition of semiconductor compounds on the surface of porous material and into the pore channels for making various sensors, optic and optoelectronic devices.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31760
Appears in Collections:№4 (34)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Kholostov_Investigation.PDF440.21 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.