Формирование металооксидных пленочных наноструктур на основе анодного Al2O3 c равномерно распределенными наноразмерными включениями Та и их электрические свойства

Abstract

В работе представлены результаты исследований формирования пленочных металооксидных наноструктур с островковыми танталовыми включениями на основе процессов анодирования двухслойных пленок Та-Al. Изучены удельное поверхностное сопротивление и температурный коэффициент сопротивления таких наноструктур. По­лученные результаты показывают, что предложенная методика позволяет полностью ко­ пировать ячеисто-пористую структуру анодного оксида алюминия и формировать наноструктурированную танталовую пленку островкового характера с диэлектрической фа­зой в местах пор.