| Title: | Анализ процессов плазмохимической обработки материалов в проточных туннельных реакторах при среднем вакууме |
| Authors: | Клакевич, М. С. |
| Keywords: | публикации ученых;плазмохимическая обработка;высокочастотные разряды;реакторы |
| Issue Date: | 2020 |
| Publisher: | Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины |
| Citation: | Клакевич, М. С. Анализ процессов плазмохимической обработки материалов в проточных туннельных реакторах при среднем вакууме / Клакевич М. С. // Актуальные вопросы физики и техники : материалы IX Республиканской научной конференции студентов, магистрантов и аспирантов, Гомель, 23 апреля 2020 года : в 2 ч. / Гомельский государственный университет им. Франциска Скорины ; редкол.: Д. Л. Коваленко (гл. ред.) [ и др.]. – Гомель : ГГУ им. Ф. Скорины, 2020. – Ч. 1. – С. 53–55. |
| Abstract: | Для ВЧ разрядов существует разные способы возбуждения. К первой группе относятся индукционные разряды, где разряд возбуждается путем подачи переменного тока в соленоид, внутри которого расположен реактор из диэлектрического материала. Ко второй группе относятся разряды, в которых переменное напряжение подается на электроды, которые могут находиться в непосредственном контакте с плазмой, либо быть изолированными от нее. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/41494 |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь
|
