| Title: | Методы контроля процессов плазменного травления материалов |
| Other Titles: | Methods for control of processes of plasma etching of materials |
| Authors: | Клакевич, М. С. |
| Keywords: | материалы конференций;спектроскопия;контроль плазменного травления;spectroscopy;plasma etching control |
| Issue Date: | 2021 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Клакевич, М. С. Методы контроля процессов плазменного травления материалов = Methods for control of processes of plasma etching of materials / М. С. Клакевич // Электронные системы и технологии : сборник материалов 57-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 19-23 апреля 2021 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2021. – С. 190–193. |
| Abstract: | Проанализированы методы контроля процессов плазменного травления материалов, рассмотрены их достоинства и недостатки. Methods for controlling the processes of plasma etching of materials has been reviewed, their advantages and disadvantages has been reviewed. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/43456 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 57-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2021)
|
