https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/49904| Title: | Маска для ионного легирования арсенида галлия |
| Other Titles: | Пат. 5321 Респ. Беларусь |
| Authors: | Телеш, Е. В. Достанко, А. П. |
| Keywords: | патенты;ионное легирование;диэлектрики |
| Issue Date: | 2003 |
| Publisher: | Национальный центр интеллектуальной собственности |
| Citation: | Маска для ионного легирования арсенида галлия : пат. 5321 Респ. Беларусь : МПК H 01L 21/266 / Телеш Е. В., Достанко А. П. ; заявитель и патентообладатель УО Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – № a 19980191 ; заявл. 27.02.1998 ; опубл. 30.06.2003. – 5 с. |
| Abstract: | В основу изобретения положена задача создания маски для ионного легирования арсенида галлия, которая имела бы более простую конструкцию и обладала бы повышенной надежностью. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/49904 |
| Appears in Collections: | Изобретения |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Pat_5321.pdf | 190.13 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.