Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5100
Title: Наноструктурированные пленки меди, формируемые методом химического осаждения на пористый кремний
Other Titles: Nanostructured copper films formed by chemical deposition on porous silicon
Authors: Бондаренко, А. В.
Keywords: авторефераты диссертаций;пористый кремний;химическое осаждение;наноструктурированные пленки меди;адгезия;поверхностный плазменный резонанс;porous silicon;chemical deposition;nanostructured copper films;adhesion;surface plasmon resonance
Issue Date: 2014
Publisher: БГУИР
Citation: Бондаренко, А. В. Наноструктурированные пленки меди, формируемые методом химического осаждения на пористый кремний: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.16.08 / А. В. Бондаренко; науч. рук. В. А. Петрович. - Мн.: БГУИР, 2014. - 24 с.
Abstract: Цель работы: установление закономерностей химического осаждения меди на пористый кремний из растворов соли меди и фтористоводородной кислоты и определение свойств формируемых при этом наноструктурированных пленок меди для применения в микро- и наносистемной технике и биомедицине.
Alternative abstract: Aim of the work: determination of regularities of the chemical deposition of copper on porous silicon from solutions of copper salt and hydrofluoric acid and study of properties of the obtained nanostructured copper films for application in micro- and nanosystem technique and biomedicine.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5100
Appears in Collections:05.16.08 Нанотехнологии и наноматериалы (в электронике) (техническая и физико-математическая отрасли науки)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Бондаренко.pdf1.32 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.