https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51455| Title: | Исследование зарядовых состояний в поверхностном слое кремниевой пластины и оксидной пленки после плазмохимической обработки |
| Other Titles: | Investigation of charge states in the surface layer of a silicon wafer and oxide film after plasma-chemical treatment |
| Authors: | Жаворонок, И. А. Тихон, О. И. |
| Keywords: | материалы конференций;кремниевые пластины;плазмотроны;зарядовые состония |
| Issue Date: | 2023 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Жаворонок, И. А. Исследование зарядовых состояний в поверхностном слое кремниевой пластины и оксидной пленки после плазмохимической обработки = Investigation of charge states in the surface layer of a silicon wafer and oxide film after plasma-chemical treatment / Жаворонок И. А., Тихон О. И. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 429–431. |
| Abstract: | Представлены исследования влияния давления в вакуумной камере СВЧ плазмотрона на зарядовые состояния поверхности кремниевой пластины с оксидной пленкой. |
| Alternative abstract: | Investigations of the effect of pressure in the vacuum chamber of a microwave plasmatron on the charge states of the surface of a silicon wafer with an oxide film are presented. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51455 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Javoronok_Issledovanie.pdf | 749.6 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.