| Title: | Анализ особенностей оборудования для плазменной обработки поверхности нитрида кремния |
| Other Titles: | Analysis of features of equipment for plasma treatment of silicon nitride surface |
| Authors: | Кабак, Т. В. |
| Keywords: | материалы конференций;плазменное травление;плазменные реакторы;нитриды кремния |
| Issue Date: | 2023 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Кабак, Т. В. Анализ особенностей оборудования для плазменной обработки поверхности нитрида кремния = Analysis of features of equipment for plasma treatment of silicon nitride surface / Кабак Т. В. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 524–526. |
| Abstract: | Рассмотрены схемы реакторов технологического оборудования индуктивносвязной плазмы с объемным расположением подложек, с помощью которых возможно проводить обработку поверхности нитрида кремния, направленные на получение гладкой морфологии с высокой анизотропией слоев. |
| Alternative abstract: | The article considers the schemes of reactors for technological equipment of inductively coupled plasma with a three-dimensional arrangement of substrates. A schemeof the design of the reactor is presented, with the help of which current studies are carried out aimed at obtaining a smooth morphology and high anisotropy of vertical layers with respect to horizontal ones during inductively coupled plasma processing of silicon nitride. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51457 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023)
|
