Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5154
Title: Формирование слоев аморфного гидрогенизированного кремния в силансодержащей плазме комбинированного разряда
Other Titles: Deposition of a-Si:H in silanconsider plasma of twofrequency discharge
Authors: Грунский, Д. И.
Grunsky, D. I.
Keywords: авторефераты диссертаций
плазмохимическое осаждение
a-Si:H
комбинированный разряд
оптическая эмиссионная спектроскопия
актинометрическая методика
толщина катодного слоя
plasma enhanced deposition
a-Si:H
combined discharge
optical emission spectroscopy
actinometrical method
thickness of a sheath
Issue Date: 2001
Publisher: БГУИР
Citation: Грунский, Д. И. Формирование слоев аморфного гидрогенизированного кремния в силансодержащей плазме комбинированного разряда: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / Д. И. Грунский; науч. рук. А.П. Досганко, М.Н. Босяков. - Мн.: БГУИР, 2001. - 23 с.
Abstract: Проведено исследование процесса формирования слоев аморфного гидрогенизированного кремния (a-Si:H) в комбинированном разряде при одновременном воздействии ВЧ и 114 полей. Разработан и создан экспериментальный комплекс для осаждения a-Si:H на подложках площадью до 300 см2. Он содержит разрядную систему в плазмобоксе, согласующее устройство, ВЧ и НЧ генераторы, диагностический комплекс и сканирующее устройство для исследования эмиссии силансодержащей плазмы.The research of deposition process of layers amorphous hydrogenated silicon (a-Si:H) in twofrequency discharge (is conducted at simultaneous influence of a RF and LF of electromagnetic fields) is cany out. Is designed and the experimental installation for a deposition a-Si:H on substrates by the area up to 300 см2 is created. It contains a digit system in plasma-box, matching box, RF and LF generators, diagnostic complex and scanner for research of emission of silanconsider plasma.
URI: http://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5154
https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5154
Appears in Collections:05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Грунский.pdf1,22 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.