Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52273
Title: Модель процесса реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени
Other Titles: Model of Reactive Magnetron Sputtering of a Two-Component Composite Target
Authors: Доан, Х. Т.
Голосов, Д. А.
Джанг, Дж.
Завадский, С. М.
Мельников, С. Н.
Нгуен, Т. Д.
Keywords: доклады БГУИР;реактивное магнетронное распыление;составные мишени;тонкие пленки
Issue Date: 2023
Publisher: БГУИР
Citation: Модель процесса реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени=Model of Reactive Magnetron Sputtering of a Two-Component Composite Target / Х. Т. Доан [и др.] // Доклады БГУИР. – 2023. – Т. 21, № 3. – С. 17-25.
Abstract: В статье предложена модель для прогнозирования содержания металлических составляющих пленок сложных оксидов, наносимых методом реактивного магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени в среде Ar/O2 рабочих газов. В модели учитывались коэффициенты распыления и ионно-электронной эмиссии распыляемых металлов и их оксидов, распределение плотности ионного тока на мишени и скорости химической реакции образования оксидов этих металлов. Для верификации предложенной модели проведены исследования элементного состава пленок оксида титана-алюминия, нанесенных магнетронным распылением Ti-Al составной мишени в среде Ar и Ar/O2 рабочих газов. Установлено, что модель адекватно описывает изменение содержания металлов в нанесенных пленках при изменении потока кислорода в камеру. Погрешность моделирования – не более 10 %, что позволяет применять модель для прогнозирования содержания металлов в пленке при реактивном распылении двухкомпонентных составных мишеней.
Alternative abstract: The article proposes a model for predicting the content of metal components of complex oxide films deposited by reactive magnetron sputtering of a two-component composite target in Ar/O 2 gas mixture. The model takes into account the sputtering yield and ion-electron emission coefficients of the sputtered metals and their oxides, the distribution of the ion current density on the target, and the rate of the chemical reaction of the formation of oxides of these metals. To verify the proposed model, studies of the elemental composition of titanium-alumi- num oxide films deposited by magnetron sputtering of a Ti-Al composite target in Ar and Ar/O 2 gas mixture were carried out. It has been established that the model adequately describes the change in the content of metals in the deposited films with a change in the oxygen flow into the chamber. The simulation error does not exceed 10 %, this makes it possible to use the proposed model for predicting the content of metals in a film during reactive sputtering of two-component composite targets.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52273
DOI: http://dx.doi.org/10.35596/1729-7648-2023-21-3-17-25
Appears in Collections:Том 21, № 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Doan_Model.pdf579.09 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.