Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5286
Title: Вакуумно-плазменная СВЧ разрядная система резонаторного типа для плазмохимического удаления фоторезистивных слоев
Other Titles: Vacuum-plasmatic microwave discharge resonant type system for plasma chemical ashing of photoresist layers
Authors: Мадвейко, С. И.
Madveyko, S. I.
Keywords: авторефераты диссертаций
СВЧ магнетрон
СВЧ плазма
СВЧ плазмохимическая обработка
фоторезист
удаление
реакционно-разрядная камера
резонатор
microwave magnetron
microwave plasma
microwave plasma chemical processing
photoresist
ashing
reactive discharge chamber
resonator
Issue Date: 2013
Publisher: БГУИР
Citation: Мадвейко, С. И. Вакуумно-плазменная СВЧ разрядная система резонаторного типа для плазмохимического удаления фоторезистивных слоев: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. И. Мадвейко; науч. рук. С. В. Бордусов. - Минск : БГУИР, 2013. - 15 с.
Abstract: Цель работы: установление закономерностей и характерных особенностей формирования, поддержания и управления взаимодействием химически активной плазмы СВЧ разряда с поверхностью твердого тела при низком вакууме в плазмотроне резонаторного типа с частичным заполнением плазмой объема резонирующей камеры и на этой основе обеспечение выбора высокоэффективных режимов проведения технологических процессов и совершенствование конструкции оборудования СВЧ плазмохимической обработки материалов.The aim of the work: To establish patterns and characteristics of the formation, maintenance and management of interaction of chemically active plasma microwave discharge with a surface of solid at low vacuum in plazmatron of a cavity-type partially filled with plasma volume resonating chamber and on this basis, providing of the choice of highly efficient modes of carrying out the technological processes and improving hardware design of microwave plasma-chemical processing of materials.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5286
Appears in Collections:05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
k_avt_M .pdf1,21 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.