| Title: | Возникновение дефектов при изготовлении фотошаблонов |
| Other Titles: | Occurrence of defects the production of masks |
| Authors: | Тумилович, В. В. |
| Keywords: | материалы конференций;микроэлектроника;фотошаблоны;дефекты;литография;лазерные технологии |
| Issue Date: | 2025 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Тумилович, В. В. Возникновение дефектов при изготовлении фотошаблонов = Occurrence of defects the production of masks / В. В. Тумилович // Электронные системы и технологии : сборник материалов 61-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 21–25 апреля 2025 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2025. – С. 66–69. |
| Abstract: | В статье анализируются ключевые этапы процесса производства фотошаблонов, в ходе которых возникают дефекты. Описаны основные виды дефектов и возможные причины их возникновения. Рассматривается метод исправления дефектов с использованием лазера. Также указаны недостатки лазерного метода при коррекции элементов топологического рисунка фотошаблонов. |
| Alternative abstract: | The article analyzes the key stages of the photomask production process, during which defects occur. It describes the main types of defects and possible causes of their occurrence. The method of correcting defects using a laser is discussed. The drawbacks of the
laser method for correcting elements of the photomask's topological pattern are also noted. Additionally, the article highlights the importance of minimizing defects at the design and production stages to achieve a quality result. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/60236 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 61-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2025)
|
